Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

زرکونیم آکسائیڈ ZrO₂ |ہافنیم آکسائیڈ HfO₂ 99.9%

تفصیل

زرکونیم آکسائیڈ ZrO₂، یا زرکونیم ڈائی آکسائیڈ، پانی میں عملی طور پر اگھلنشیل، اور HCl اور HNO میں معمولی حل پذیر₃، پگھلنے کا نقطہ 2700 ° C، کثافت 5.85 گرام/سینٹی میٹر³، بغیر بو کے کرسٹل ہے جس میں اعلی پگھلنے والے نقطہ، اعلی مزاحمتی صلاحیت، ہائی ریفریکٹیو انڈیکس اور کم تھرمل ایکسپینشن گتانک خصوصیات ہیں، جو کہ اہم اعلی درجہ حرارت مزاحم مواد، سیرامک انسولیٹنگ میٹریل، سیرامک سن اسکرین اور مصنوعی جواہرات کے لیے خام مال ہے۔ZrO₂عام سامان ہے جسے ٹھنڈی، خشک اور ہوادار جگہ پر رکھنا چاہیے، کنٹینر کو مضبوطی سے بند رکھیں اور مضبوط الکلی سے دور رکھیں۔زرکونیم آکسائیڈ ZrO₂عام طور پر دھاتی زرکونیم اور زرکونیم مرکبات، ہائی فریکوئنسی سیرامکس، کھرچنے والے مواد، سیرامک پگمنٹس، ریفریکٹری میٹریل اور آپٹیکل گلاس بنانے کے لیے استعمال کیا جاتا ہے۔

ترسیل

زرکونیم آکسائیڈ یا زرکونیم ڈائی آکسائیڈ ZrO₂ZrO کی پاکیزگی کے ساتھ₂+HfO₂≥ 99.9% اور ہافنیم آکسائیڈ HfO₂HfO کی پاکیزگی کے ساتھ₂+ZrO₂ویسٹرن من میٹلز (SC) کارپوریشن میں ≥99.9% 60-150 میش پاؤڈر کے سائز میں، 25 کلو گرام پلاسٹک کے تھیلے میں گتے کے ڈرم کے ساتھ، یا حسب ضرورت تفصیلات کے طور پر ڈیلیور کیا جا سکتا ہے۔

ابھی انکوائری کریں۔

تفصیلات

ٹیگز

تکنیکی وضاحتیں

ZrO₂& HfO₂

زرکونیم آکسائیڈ یا زرکونیم ڈائی آکسائیڈ ZrO₂ ZrO کی پاکیزگی کے ساتھ₂+HfO₂≥ 99.9% اور ہافنیم آکسائیڈ HfO₂HfO کی پاکیزگی کے ساتھ₂+ZrO₂ویسٹرن من میٹلز (SC) کارپوریشن میں ≥99.9% 60-150 میش پاؤڈر کے سائز میں، 25 کلو گرام پلاسٹک کے تھیلے میں گتے کے ڈرم کے ساتھ، یا حسب ضرورت تفصیلات کے طور پر ڈیلیور کیا جا سکتا ہے۔

اشیاء	HfO₂	ZrO₂
ظہور	سفید پاوڈر	سفید پاوڈر
سالماتی وزن	210.49	123.22
کثافت	9.68 گرام/سینٹی میٹر³	5.85 گرام/سینٹی میٹر³
میلٹنگ پوائنٹ	2758 °C	2700 °C
CAS نمبر	12055-23-1	1314-23-4

نہیں.	آئٹم			معیاری تفصیلات
1	طہارت			ناپاکی (PCT زیادہ سے زیادہ ہر ایک)	سائز
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/th 0.005	60-150 میش
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 میش
4	پیکنگ			گتے کے ڈرم کے ساتھ پلاسٹک کے تھیلے میں 25 کلو گرام

ہیفنیم آکسائیڈ HfO₂، یا ہافنیم ڈائی آکسائیڈ، ہافنیم کا ایک مرکب، HfO₂+ZrO₂≥99.9%، پگھلنے کا نقطہ 2758°C، کثافت 9.68g/cm³، پانی، HCl اور HNO میں اگھلنشیل ہے۔₃، لیکن H میں گھلنشیل₂SO₄اور HF.ہفنیم آکسائیڈ HfO₂ایک سیرامک مواد ہے جس میں وسیع بینڈ گیپ اور ہائی ڈائی الیکٹرک مستقل ہے۔ہیفنیم آکسائیڈ HfO₂MOSFET میں روایتی SiO₂/Si ڈھانچے کے سائز کی حد کے مسئلے کو حل کرنے کے لیے دھاتی آکسائیڈ سیمی کنڈکٹر فیلڈ ایفیکٹ ٹیوب کے گیٹ انسولیٹر سلیکا کو تبدیل کرنے کا سب سے زیادہ امکان ہے، لہذا یہ مائیکرو الیکٹرانک فیلڈ میں استعمال ہونے والا ایک جدید مواد ہے۔یہ ہفنیم دھات، ہفنیم مرکبات، ریفریکٹری میٹریل، اینٹی تابکار کوٹنگ میٹریل، اور کیٹالسٹ بنانے کے لیے بھی بڑے پیمانے پر استعمال ہوتا ہے۔